Лазерная обработка материалов: Прямой лазерный синтез фотонных и электронных тонких плёнок. Микроструктурирование, локальное направленное истончение и отжиг с помощью лазера. Изготовление и характеризация образцов в чистых комнатах. Микронапыление электродов, УФ-литография. Характеризация наноразмерных образцов методами сканирующей зондовой и сканирующей лучевой микроскопий, микроструктурирование на основе сфокусированного ионного пучка и масс-спектрометрия.

Быстрое прототипирование фотонных структур. Быстрое прототипирование оптических волноводных схем с использованием прямой лазерной записи на различных фотонных платформах; оксид кремния, допированный Ge и пористый кремний, а также более широкий спектр фотонных материалов. Интерферометрическая литография, импринт-литография решёток (фазовый или поверхностный рельеф). Обработка УФ-лазером, специализированная литография.

Прототипирование оптоэлектронных устройств. Полный цикл получения прототипов оптоэлектронных датчиков; синтез материалов, нанесение электродов, определение электрических и оптических характеристик.