Центр коллективного пользования «Чистые помещения для микро- и нанообработки»

ключевые возможности

результаты на 2024 г.

диаметр пластин до 150мм

платформы «Кремний на изоляторе», «Нитрид кремния» и «Ниобат лития»

критические размеры от 65нм

активная оптическая стыковка в торец и с помощью дифракционных элементов

корпусирование

электро-оптическая характеризация

библиотеки проектирования (process design kit, PDK) на базе отечественного ПО

планируемый объем выпуска в формате MPW (multi-project wafer) до 600 чипов 10х10 мм в год

потенциал трансфера технологий на создаваемые в РФ экспериментальные производства ФИС

контакты

Сколковский институт науки и технологий

Территория Инновационного Центра «Сколково»

Россия, Москва, 121205, Большой бульвар д.30, стр.1